Мониторинг наночастиц в ультрачистой воде
Позволяет принимать обоснованные решения на основе данных в мониторинге UPW... как никогда раньше.
Система TSI Nano LPM™ расширяет возможности обнаружения процесса до 10 нм.
TSI Incorporated, лидер в области прецизионных измерительных приборов, представляет систему TSI Nano LPM™, предназначенную для надежного обнаружения наночастиц размером 10 нанометров (нм) в ультрачистой воде (UPW), используемой в производстве полупроводников. Система Nano LPM™ обеспечивает непрерывный мониторинг качества UPW, позволяя инженерам и специалистам по контролю качества принимать обоснованные решения в реальном времени.
Решение проблем мониторинга UPW
Ультрачистая вода (UPW) используется для очистки пластин (wafers) и оборудования, а также для процессов травления и удаления загрязнений при производстве полупроводников, обеспечивая высокое качество продукции. Даже наночастицы размером 10 нм могут негативно повлиять на выход годных изделий, что делает оперативное обнаружение таких частиц критически важным.
Основные проблемы отрасли связаны с тем, что традиционные оптические методы не могут обнаруживать частицы меньше 20 нм из-за:
- особенностей показателя преломления материала частиц,
- помех от микропузырьков, вызывающих ложные и нестабильные показания.
Система TSI Nano LPM™ решает эти проблемы, обеспечивая надежное обнаружение частиц размером от 10 нм и предоставляя стабильные данные в режиме реального времени для мониторинга качества UPW.
Запатентованная технология — аэрозолизация частиц
Система Nano LPM™ устанавливает новый стандарт мониторинга наночастиц в UPW, гарантируя высокую точность и стабильность измерений на уровне 10 нм.
Она использует запатентованный генератор частиц Nano LPM, который:
- Аэрозолизирует UPW,
- Высушивает капли, оставляя твердые наночастицы,
- Анализирует частицы с помощью счетчика конденсационных частиц Nano LPM CPC, специально разработанного для чистых помещений.
Ключевые преимущества
Система TSI Nano LPM™ предлагает передовые возможности для решения задач производителей полупроводников:
- Принятие упреждающих решений до того, как качество продукции будет нарушено — надежное обнаружение частиц от 10 нм.
- Калибровка по стандарту кремниевой двуокиси, что позволяет точнее учитывать реальные загрязнения в UPW.
- Воспроизводимые измерения 10 нм при использовании нескольких приборов — важно для контроля процессов и анализа данных в разных точках.
- Отсутствие погрешностей из-за различий в показателях преломления частиц, а также устранение ложных срабатываний из-за пузырьков и загрязнения оптических поверхностей.
- Разработано для полупроводникового производства и чистых помещений — Nano LPM CPC использует UPW в качестве рабочей жидкости, исключая риск внесения загрязнений.
- Уникальная возможность полевой проверки чувствительности прибора с помощью встроенного порта инъекций.
Где устанавливать?
Ознакомьтесь с Руководством по установке системы TSI Nano LPM™ для мониторинга UPW:
Скачать версию US | Скачать версию A4
В нем подробно описаны различные точки установки системы в фабриках полупроводников, которые обеспечивают повышенный контроль процессов.
